2024年4月7日发(作者:mathtype公式编辑器)
科-手豕传
S
ci
e
nt
i
st
B 0
..一…
a【 … 一……
学,到莫斯科钢铁学院物理化学系学习,历时
五年半,获冶金工程师称号。1960年取得学
位的他立即回国,被分配到位于沈阳的中国
科学院金属研究所工作。当时,新中国百废
待兴,东北无论工作条件或生活条件都十分
艰苦,但立志科学报国的闻立时对此却全然
不顾,他毫不动摇地扎根于此,并度过了此
后整整半个世纪的人生历程。
闻立时于1979年到1981年获西德马普奖学
金,在马普金属研究所粉末冶金实验室作博
士后访问学者;l988年和1989年先后两次赴奥
地利科学院固体物理研究所作访问学者;
1994年到德国夫琅和费表面涂层物理研究所
作访问学者;1996年在美国华人的ANC公司
担任总工程师和科技顾问。
闻立时院士还担任了中山大学/太阳能系
统研究所学术委员会主任、华南理工大学、
西北工业大学、北京科技大学、兰州大学、
华中科技大学/武汉光电国家实验室教授、中
南大学名誉教授、中南大学物理和技术学院
首席教授、大连理工大学材料学院院长、三
束材料改性国家重点实验室学术委员会主
任、电子科技大学电子薄膜与集成器件国家
重点实验室学术委员会主任,微电子材料与
器件集成国家重点实验室学术委员会主任、
天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实
验室学术委员会主任、中国科学院金属研究
所学术委员会委员。英国表面工程(Surface
Engineering)国际顾问委员会委员、Asian
Interifnish国际委员会成员、国家自然科学基
金委员会材料与工程科学部评审委员会委
员、中国空间学会理事及空间材料专业委员
会副主任、中国金属学会理事及材料学会理
事、中国离子表面优化协会副理事长、中国
真空学会理事、中国机械工程学会表面工程
分会副主任委员、中国表面工程协会热喷涂
分会理事、全国金属和非金属覆盖层标准化
技术委员会副主任委员,军用表面工程国防
重点实验室学委会委员、教育部先进陶瓷开
放实验室学术委员会主任、“十一五”国家
重大安全基础研究项目“纳米电子信息功能
材料”项目专家组组长、“973高性能碳/碳
201 2年第9卷第2期(总第47期)
复合材料”项目专家组成员。他还是《无机
材料学报》、 《硅酸盐学报》、 《薄膜科学
与技术》编委、国家高技术863—409主题第七
专题专家论证组成员,湖南省院士顾问团成
员、深圳太阳能学会荣誉理事长。
二、主要研究领域和学术成就
在小型火箭发动机喷管耐高温涂层、返地
卫星回收天线耐高温涂层、潜一地导弹遥测
天线耐高温涂层、战略和战术弹道弹头隐身
材料等项目研发方面作出了重大贡献,先后
荣获国家科技进步奖特等奖和三等奖各1项、
中科院科技进步奖一等奖和三等奖1项、辽宁
省重大科技成果奖2项,并被评为国家“863计
划”项目七五先进个人、中科院重大科研项
目先进个人、国家军品配套重点科研计划项
目先进个人、国家级有突出贡献的专家、辽
宁省及沈阳市优秀专家。此外,还研制出具
有九十年代先进水平的工业型离子镀和磁控
溅射镀膜机;完成了镍铬铝钇抗热腐蚀镀层
等多项中试及一台份工业燃气轮机和四台份
航空发动机共1440只叶片的镍铬铝钇镀层任
务,实现了工业化生产,并经检查合格已装
机使用;在国家自然科学基金重大项目中,
完成了气相生长金刚石辐照场和流场传热模
拟计算、实验验证及工业反应器设计原理研
究,申报专利三项,推进了金刚石膜的实用
化,在国家验收中被评为特优。
(一)提出了纳米复合隐身原理,并研制
出高性能隐身材料
1.开创性地提出纳米复合隐身材料的学
术思想、微观物理模型和基本理论框架。其
内容主要包括以下7方面:
(1)吸收电磁波的前提条件有二:一是
电磁波进入材料;二是材料具有高效电磁波
能量转化机制。纳米复合隐身材料的学术思
想认为:上述两个前提条件是利用材料纳米
结构的低维效应和纳米复合效应来实现的。
(2)利用超薄金属膜的经典透射效应、
电导率经典尺寸效应和量子尺寸效应及量子
渗流等低维效应,可使电磁波充分进入材
料,以便材料的吸波机制得到充分发挥;
(3)提出并分析了纳米结构电磁波响应
振动膜的物理模型。指出:雷达波的吸收有
赖于纳米结构具有的等离子体共振、等离子
体界面波激发和衰减、纳米铁磁共振、纳米
铁电共振等机制的作用;
(4)分析了纳米结构电磁响应模的频谱
特性后认为,通过选择合适的纳米结构特征
尺寸,调节低维材料的表观电子浓度和改变
其等离子体共振频率,可移动峰位,调节带
宽和增加峰数;
(5)分析研究了材料电子体系/行波场耦
合物理模型、耦合方程及影响能量转化效率
的特征条件参量,其中包括电子一行波场同步
性、材料色散特性、内场强度及耦合阻抗
等。认为,通过纳米结构设计可调节波一场耦
合和波一波耦合条件,从而提高材料的吸波效
率;
(6)分析杂化复合相关的异质内场耦合
后发现,通过纳米/微米杂化复合,可增强材
料的吸波效果;
(7)通过控制纳米膜界面分形维数及其
特征码尺的合理取值范围,在提高红外漫反
射率的同时,减少红外比辐射率和红外镜反
射率,可降低目标红外特征信号强度。
2.设计并完成了关于超薄金属膜电磁波
透射率、纳米膜电导率经典尺寸效应及纳米
复合吸波等三项原理的验证实验,肯定了上
述纳米复合隐身学术思想的正确性。
3.设计并研制出“纳米多层膜吸波层”
和“纳米膜/涂料杂化复合吸波层”两系列纳
米复合隐身材料,其面密度低、厚度薄、吸
Scientist Bio
收频带宽,特别是其长波频段的高吸收率,
大大优于传统隐身材料,完成了多种导弹型
号的隐身应用技术研究,达到了任务指标要
求,通过了航天部和中科院组织的联合鉴
定,并立项正式用于相关型号的武器。随
后,又通过改进选材,提高了吸波层的耐温
性,使其在加热后,其主动段的吸波性能不
会降低。
闻立时院士提出的纳米复合隐身材料的微
观原理,对研发高性能隐身材料及其它电磁
功能材料具有普遍而重要的指导意义,为我
国研究小型化战略弹头和先进战术弹头突防
提供了一条有效途径,在该学科领域居开创
性的领先地位。以上成果获得了中国科学院
科技进步奖一等奖和中国航天工业总公司科
技进步奖二等奖。
(二)研制出热喷涂/涂料复合耐高温系
列涂层
1.研究并制备了电弧等离子喷涂设备和
工艺技术;并根据火箭发动机的工作条件,
设计了等离子喷涂金属/陶瓷混合复合、多层
复合及杂化复合等方案;研制成耐高温抗冲
刷隔热系列涂层,应用于导弹发动机尾喷
管,达到了关于抗热震、抗冲刷、隔热和性
能稳定性等方面的技术指标,获1977年辽宁
省重大科技成果奖(电弧等离子体发生技术
及其在表面涂层上的应用)。
2.根据卫星再入的工况条件,提出了等
离子喷涂陶瓷层与陶瓷涂层复合防护层方
案,研制出返地回收卫星天线耐高温涂层,
其防护效果良好,保证了卫星返回地面过程
中的通讯联系。获1977年辽宁省重大科技成
果奖(耐高温抗冲刷隔热电绝缘涂层)、1986年
国家科技进步奖特等奖(返回地面人造卫星)。
3.研制成功中速率遥测热天线防护涂
层,在热流比返地卫星天线高出50%的苛刻条
件下,其防护效果仍然良好,从而确保了导
弹飞行弹道测量的成功。获1986年国家科技
进步奖三等奖(中速率遥测热天线)。
(三)对脉冲偏压技术进行了理论创新与
应用创新
1.提出了二十世纪末的先进技术之
201 2年第9卷第2期(总第47期)
科早豕1
Scientist Bio ̄raoh
一一一
具有传统电弧离子镀不可比拟的功能
优势的脉冲偏压电弧离子镀技术
闻院士带领团队在国际上首先采用脉冲偏
压电弧离子镀技术研制出叶片防护涂层,并
在三个型号上得到了应用。与此同时,还对
脉冲偏压电弧离子镀技术的原理和镀膜结构
进行了研究,揭示出脉冲偏压电弧离子镀过
程的远离平衡态特征,以及由此带来的降低
沉积温度、降低涂层内应力、提高结合强度
等良好效果。在此基础上,还研制出了适合
于叶片防护涂层工业生产的脉冲偏压电弧离
子镀设备。与国外同类设备相比,该设备具
有脉冲偏压电压高、占空比低、非对称双极
向特性、产品合格率高、产率高、成本低等
优点,实现了跨越式发展与赶超国外。
2.利用脉冲偏压技术的工艺和设备制备
出等离子体平板显示器(PDP)的MgO保护膜
层
制备应用于等离子体平板显示器(PDP)的
氧化镁(MgO)保护膜层的目的,是为了使之有
更强的耐等离子体腐蚀的能力,有效地降低
生产成本,以达到制备出1:l的PDP玻璃前板
保护层的预产业化的目标。这个项目难度
高。为解决氧化镁(MgO)保护膜层难以制造的
问题,闻院士提出了用脉冲偏压电弧离子镀
技术制备基于PDP应用的MgO保护层的问题。
为此,他开展了一系列有关研究,其中包
括:脉冲偏压电源的特性优化、工作稳定性
的改进;磁场参数的设计与优化,特别是沉
积速率与薄膜生长质量之间的协调;Mg离子
的氧化态的控制和掺入杂质的选择控制(包
括引入氧气的量、位置及其分布等)。
结果表明,提高MgO膜的均匀性和致密
性,细化颗粒,可更有效地耐等离子体腐
蚀;用于制备MgO保护膜的脉冲偏压电弧离
子镀设备,既能面向生产,又能兼顾科研;
控制镁的氧化态及氧化镁薄膜的生长形态,
并选择和控制适当的杂质,可提高二次电子
发射率、降低启动电压。
为使上述研究项目产业化,闻院士同时研
制出了面向产业化的脉冲偏压电弧离子镀膜
设备。用这种先进的镀膜设备制备的保护
瓣 201 2年第9卷第2期(总第47期)
膜,不但具有离化率高(>90%)、瞬间能量密
度高、平均能量密度低等优点,而且可提高
能量利用率,同时还可降低镀膜过程中基底
的温度,从而降低由于膜与基底热膨胀系数
的差异所造成界面应力,使膜层与基底的结
合更牢固。把电弧离子镀技术应用于MgO薄
膜的制备上有其独特的优势,至今未见他人
报导。面向规模化生产的镀膜设备也是本项
目的创新点之一。由于目前国内还没有自主
研制的镀MgO膜的生产线,亦没有掌握相关
的关键技术,因此进口设备的价格昂贵。
闻院士针对脉冲偏压电弧离子镀在工艺开
发中出现的一系列至关重要的基础理论问题
和技术问题进行了系统的研究,其中,包括
脉冲偏压电弧离子镀的等离子体负载特性研
究、沉积温度的计算预测、大颗粒净化机制
研究和绝缘薄膜沉积的可行性研究等,其目
的是大大拓展电弧离子镀的功能范围,促进
离子镀新技术的发展,同时进一步丰富离子
镀的基础理论。
闻院士带领团队针对脉冲偏压电弧离子镀
的工艺基础开展了一系列研究;并将脉冲偏
压多弧离子镀工艺广泛应用于高速钢基体;
另外还对PBAIP沉积TiN薄膜的低温沉膜机制
进行了系统的研究,也同样证实了脉冲偏压
电弧离子镀具有明显的低温沉积效应。与直
流偏压相比,尽管脉冲偏压使沉积温度降
低,但薄膜的结合力、硬度等力学性能并不
下降,其综合性能甚至在一定程度上得以提
高。此外,还对脉冲偏压下的基体沉积温度
进行了力学计算和预测。在能量平衡原理的
基础上,建立了脉冲偏压多弧离子镀基本沉
积温度的理论计算模型。用该模型计算出的
沉积温度与实测温度吻合较好。在既定设备
上,根据沉积温度的计算模型,可通过改变
脉冲偏压参数来实现对温度的预测与控制。
闻院士领导的团队在相应的基体上沉积了
Ti/TiN多层薄膜,证实了用脉冲偏压多弧离子
镀沉积多层薄膜的可行性。同时,他们通过
改变偏压幅值,有效地控制了TiNbN三元硬质
薄膜的相结构和组成;并在此基础上,通过
交替改变偏压幅值,制备了呈多层结构的薄
膜,其硬度可高达37.3GPa。
3.提出了纳米多层膜的微观物理模型和
基本理论框架
闻院士的研究结果包括基本理论框架和纳
米结构低维组元本构特性尺寸效应两方面。
首先,作为金属/电介质纳米多层膜微观原理
研究的阶段性结果,他提出了纳米多层膜电
磁工程的微观原理框架,其要点包括:产生
EMR的前提、低维导电膜的经典透射效应、
EMR模式类型、EMR模式的等离子体模型、
EMR模的能量转化效率漫波理论分析、低维
材料本构特性的尺寸效应等。在EMR模式类
型中,讨论了金属/电介质纳米多层膜中四种
可能的EMR模式,它们是等离子体共振、等
离子体界面波共振、纳米铁磁共振、纳米铁
电共振。通过与已有文献论述的比较不难看
出,上述微观原理框架是在国内外首次系统
地揭示了纳米结构电磁功能的微观物理机
制。
闻立时院士于l986年研制出Ti—B—N系纳米
相耐磨涂层;1987年开始研制纳米多层膜电
磁功能材料,并于1990年取得了原理性突
破,进入实用化阶段;1993年研制出纳米多
层膜耐磨涂层;1998年研制出纳米多层膜耐
腐蚀涂层。1997年,他根据固体物理、等离
子体物理、电子学和电磁场理论,分析了金
属/电介质纳米多层膜体系的电磁工程的微观
原理,提出了其基本理论框架。同时,还进
行了本构特性尺寸效应的实验研究。在开展
理论研究的同时,金属/电介质纳米多层膜体
系的应用研究,亦取得了显著成效。总之,
无论在理论框架的指导金属/电介质纳米多层
膜的研发,还是在纳米多层耐磨耐蚀膜探索
与制备等方面,都取得了很显著的效果,同
科芋承1专
SCientist BiOgraphy
一
时还进一步扩大了它们的应用领域和拓宽了
发展前景。
多层膜现己成为发展高强度表面层材料的
新途径,它作为耐磨、耐腐蚀涂层已开始大
量进入市场;在发展耐冲蚀、耐空蚀、抗冲
击等高难度重载荷高性能涂层中,占有重要
地位。特别是纳米复合多层膜,这是一个应
用前景广阔、潜力很大的领域,但难度很
高,因此有必要结合重大应用背景进行深入
的高水平的研究。
在沉积薄膜过程中,希望它沉积比较厚,
因此,从应用性能和效果来考虑,薄膜越厚
越好。但是,薄膜过厚会带来许多问题,比
如致密度下降,结合强度变弱,杂质过多及
产生出位错使其性能降低,从而影响到薄膜
作为防护涂层的效果。基于此,闻院士提出
了采用多层膜代替单层膜的方法,运用多层
膜代替块体材料。他首先从理论上证明了多
层结构膜代替块体材料具有许多优越性;然
后提出了制造多层膜的路线、方案、工艺技
术等;最后再通过实验和实践证明多层膜的
优越性。用弹性常数相差尽可能大的两种组
元构成纳米多层结构,以获得高强度材料的
模型。提高薄膜材料硬度、韧性、强度等力
学性能的方法,其物理机理是利用多层结构
的层界面来控制位错的运动。这种多层结构
的单层厚度应当小到使位错源不能起作用,
从而抑制了位错在多层结构中的形成和运
动。因此,纳米多层结构的力学增强作用成
效明显。
利用透射电镜观察纳米薄膜结构的难度很
大。1979年闻立时到西德马普金属研究所作
博士后访问学者时,他刻苦钻研透射电镜技
术(TEM),并成功地应用这种技术来观察
分析多层膜横截面的组织结构。他利用图像
分析仪测量多层膜的晶粒度,得到了
Ti/TiN多层膜晶粒度与调制波长之间的直线关
系,并由此推断出晶粒细化系因多层膜单层
厚度减少,导致晶核长大的空间受限所引起
等结论。多层膜中存在较强的界面效应,界
面共格或位错、界面粗糙度、界面清晰度、
界面过渡层等,均可能对多层膜的力学性能
产生影响。
201 2年第9卷第2期(总第47期)辫
科芋豕传
Scientist Bio ra h
而后,他与维也纳工业技术研究所开展国
际合作,只用了七个月就获得了优异的成
果:直观地观察到多层膜的断口韧性比单层
膜要好得多。理论和实践研究结果表明,多
层膜的理论基础和制造工艺已被成功掌握。
近年来,多层膜在耐磨耐腐蚀涂层中已得
到了越来越多的应用,并已逐步进入市场。
在很多场合,耐腐蚀涂层中采用了Ti/TiN,
C/TiN等多层膜。目前,在航空发动机压气
机叶片上,已广泛采用TiN膜作为耐腐蚀涂
层。若将之做成Ti/TiN纳米多层膜,则有利
于细化晶粒到纳米尺度。这样一来,既改进
了力学性能,又防止了穿透性针孔,从而大大
改善了TiN作为耐腐蚀涂层的性能一一由过去
各厂7级以下的水平,提到了9级以上,达到了
国内领先和国际先进水平。
以前,各种场合下广泛使用的是(Ti'A1)N,
TiCN等单层膜,现在已全部改成(Ti,A1)
N/TiN,TiCN/TiN了。通过复合化和多层
化,大大提高了韧性,改进了服役性能。目
前在发达国家已大量投放市场。
随后,闻院士及团队开展的国家863计划
高技术项目“亚微米相刀片上纳米多层复合
耐磨防护涂层”的研究,推进了我国硬质刀
具生产的技术进步与产品的更新换代;同时
还研发出了优质纳米硬质涂层的批量生产工
艺和工业化生产设备;超细晶硬质基材已批
量生产并出口;纳米多层耐磨复合涂层的脉
冲偏压电弧离子镀产业化技术也已成熟,并
能提供成套设备和镀膜产品;与超细晶硬质
合金制备技术结合,试制成功了纳米多层耐
磨复合涂层微钻和圆盘切刀。从而使我国在
硬质合金刀具方面的制备技术有了更大的提
高,从根本上扭转了我国在此领域技术落
后、产品附加值低的现状,达到国际先进水
平。
4.在透明导电薄膜领域进行了深入的开
拓性的研究并开发出多种应用
近二十多年来,透明导电薄膜无论在材料
体系或是制备技术方面都取得了迅猛的发
展。目前,在产业中得到广泛应用的是
ITO薄膜,但考虑到性能价格比,人们力图
201 2年第9卷第2期(总第47期)
寻找到一种价格低廉、强紫外吸收(禁带宽度
>3eV)、高可见光透射率(>85%)、高红
外反射率(>80%)、对微波具有强衰减性、性
能优异的透明导电氧化物薄膜,以用作ITO的
替代材料。研究表明,掺铝氧化锌薄膜,具
有原料储量丰富、易于制造、成本低廉、无
毒、热稳定性和化学稳定性好等优异特性,
同时,其性能价格比高,因此是ITO薄膜的最
佳替换者之一。
闻院士及其领导的团队着重于目前最重要
的两种透明导电材料ITO和zAO的直流磁控反
应溅射制备及其电学和光学性能的研究。他
们对这两种透明导电薄膜进行全面的分析与
研究,并提出了提高透明导电薄膜电学性能
的方法。研究结论显示,提高透明导电膜体
系的电学性能同时又不降低透光性的可能方
向之一,是采用金属一透明导电薄膜的多层纳
米体系。闻院士在理论分析基础上,又进一
步率领团队深入研究并掌握了ZAO薄膜的制
备工艺和技术。此外,新型透明导电膜在太
阳能电池中作为减反射层和透明电极使用,
还可提高太阳能的能量转化效率,因此对太
阳能电池的发展具有极其重要的意义。
在闻院士的指导下,相关产业公司先后研
制出脉冲偏压电弧离子镀膜机、直流/中频磁
控溅射镀膜机、离子镀/溅射多功能镀膜机等
多种设备,并向承担叶片生产厂转让了工艺
技术,为实现我国气相沉积镀膜技术及其生
产装备的国产化作出了重要贡献。
三、坚持跨越发展,突出自主创新,狠抓
实际应用
(一)创建了电弧等离子喷涂设备和工艺
技术。根据火箭发动机工作条件,他设计了
等离子喷涂金属/陶瓷混合复合、多层复合及
杂化复合等方案,研制成了耐高温抗冲刷隔
热涂层系列,并将之应用于414歼击机爬高助
推器、541步兵肩扛发射导弹、317空空导弹、
201反坦克导弹等l0余种型号武器火箭发动机
尾喷管,达到了有关抗热震、抗冲刷、隔热
和性能稳定性等技术指标的要求,并获
1977年辽宁省重大科技成果奖(电弧等离子
体发生技术及其在表面涂层上的应用)。闻
组长。
恨据卫星再入的工况条件,提出了
陶瓷层与磷酸盐粘结陶瓷涂层复
案;针对天线形状不规则的特
喷涂工艺,研制成尖兵1号返地卫
I
耐高温涂层,防护效果良好,保
回地面过程中的通讯联系,获
省重大科技成果奖(耐高温抗冲刷
涂层),1986年国家科技进步奖特
也面人造卫星)。闻立时为课题组
生解剖卫星回收天线残骸,分析其
涂层行为的基础上,根据导弹飞
,
拟定了改进方案,研制成功中
天线防护涂层,在热流比返地卫
;50%的苛刻条件下,防护效果良
导弹飞行弹道测量成功,l986年
进步奖三等奖(中速率遥测热天
f为课题组长。
重视并大力推进科研成果向现实
化
l 9 7 9
年闻立时
获西德马
普金属研
究所奖学
金,以博
士后访问
学者的身
份,在该
所粉末冶
金实验室
从事合作
研究,为
时两年。
回国之后
闻立时研
制出了具
先进水平的工业型电磁脉冲增强
膜机和等离子体增强磁控溅射镀
成功低温沉积工艺技术;研制出
碳氮化钛、氮化钛/碳氮化钛硬质
科-平承
Scientist t3i0graphy
膜,氧化铟锡和氧化锌铝透明导电膜,钛铝
合金抗腐蚀镀层;进行了镍铬铝钇抗热腐蚀
镀层、钛/氮化钛抗盐雾腐蚀镀层、锌铝合金
件上低温沉积氮化钛装饰镀层,以及内燃机
活塞环上低温沉积氮化钛耐磨镀层中试;实
现了氮化钛铝、碳氮化钛和镍铬铝钇等镀层
的工业化生产。其中,氮化钛铝和碳氮化钛
已从1996年起由美国ANC公司投放市场,到
当年年底,其销售额已接近该公司总销售额
的一半;镍铬铝钇在1998年完成了一台份工
业燃气轮机和四台份航空发动机共1440只叶
片的镀层任务,经检查镀层质量全部合格,
已装机使用。还与用户签订了1999年继续批
量生产的供货合同。用上述设备和技术,在
沈阳和长沙分别建立了表面工程中试和工业
化生产基地,与香港城市大学超金刚石及先
进薄膜中心合作组建了先进功能薄膜联合实
验室,结合香港市场需求,共同开发新产
品,推动香港高新科技产业的发展。
闻立时院士在国家自然科学基金重大项目
中,完成了气相生长金刚石辐照场和流场传
热模拟计算、实验验证及工业反应器设计原
理研究,申报专利三项,已公布,推进了金
刚石膜的实用化,在国家验收中评为特优。
闻立时因此于1991年获国防科工委表彰。
五、晚年将自主创新的目标重点定位在太
阳能科技和产业
晚年的闻立时反而更加忙碌,他积极投身
于中国太阳能光伏产业,将自己的余生都献
给了这个充满奇迹、光明,并拥有美好未来
的科学事业,成为中国太阳能技术和产业的
积极推动者、策划者、组织者与实施者。
闻立时院士具有科学务实的精神和坚持真
理的胆识。由于冶金法多晶硅太阳能技术本
身尚存在着不完善之处,对若干问题大家认
识不一,颇有争议。在研讨中,闻院士反对
说大话、假话、空话,坚持客观、科学地认
识、分析和处理问题,为中国冶金法多晶硅
工作者起到了很好的表率作用,并在该领域
享有崇高的威望。2009年6月, “冶金法太阳
能多晶硅产业技术创新联盟”在厦门成立,
闻立时院士作为该技术与产业的倡导者和率
201 2年第9卷第2期(总第47期)辫
科罕豕1专
ent、.StBiographY
领者之一,被一致推选为专家委员会主任。
随后,他积极领导并参与了联盟发展规划的
制订,提出了化学载能束提纯的基础理论,
并亲自审议冶金法多晶硅联盟致国家相关部
门的建议书和产业规划,同时还为冶金法多
晶硅的产业技术标准提出了高屋建瓴的指导
性意见。
闻立时院士十分注重理论联系实际。他积
极投身冶金法多晶硅太阳能技术产业化实
践:国内相当一部分光伏产业的生产第一线
留下了他那伟岸的身影;大多数光伏产业论
坛、学术会议、产业活动中都记录了他的精
彩发言。闻院士具有强烈的历史使命感和社
会责任感,他从始至终充满激情,积极支持
太阳能产业。他常年奔波于大江南北、全国
各地,为中国新能源及太阳能产业的发展倡
导疾呼,献计献策,与各地政府学者企业积
极开展多方位多层面多视角的科技和产业的
技术交流,为各地区提供新能源新材料产业
发展规划建议,为各企事业单位提供产业咨
询、技术指导、合作交流等,指导企业开展
太阳能产业项目的工作,并经常作为顶级专
家顾问参与新能源项目的评估分析及检查验
收等专业科技工作。
六、重视人才培养
闻立时极其重视对青年人才的培养。他积
极为年轻人的成长创造条件。多年来,他为
表面与界面科学、薄膜材料与制造工艺、纳
米技术以及我国的国防事业的发展做出了重
大贡献,并培养了大批博士、硕士等高端科
技人才近百人,在科学界和工业界享有崇高
的声誉。他在多所大学和多个实验室担任教
授,他先后送出和推荐出国学习和深造的学
生不计其数,而且大多数已经学成回国,分布在
中国的大江南北,真可谓桃李满天下,为祖
国的科研事业做出了巨大的贡献。获中国科
学院优秀研究生导师奖。编写了固定材料界
面、物理化学等研究生课程讲义及表面界面
物理、薄膜物理、纳米微结构物理等研究生
课程教学大纲、讲义及资料汇编。闻立时还
积极鼓励两个儿子海归回国效力,为祖国的
新能源和太阳能产业发展贡献力量。
虽然闻立时院士工作很忙,但却会常常在
稳 201 2年第9卷第2期(总第47期)
百忙之中打电话给学生们给予专业指导,并
询问他们的工作、生活情况,帮他们解决学
习中、科研中、工作中与生活中面临的难
题。他经常和学生们谈心,一谈就是几个小
时,并且往往错过吃饭的时间。闻立时的教
诲总能使学生们打开心扉,畅所欲言。谈话
往往能深入学生们的内心深处,打开他
(她)们的心结,不但使他(她)们在课题
研究方面有了更加清晰的思路,而且也使其
浮躁不安的心绪渐渐平息下来。
七、闻立时的主要论著
闻立时院士并先后担任《无机材料学
报》、 《材料保护》、 《硅酸盐学报》、
《固体润滑》、 《薄膜科学和技术》、 《功
能材料与器件》、 《真空》等学术刊物的编
委和英国《表面工程》国际顾问委员会委
员。编写了《固体材料界面》、 《物理化
学》等研究生课程讲义,以及《表面界面物
理》、 《薄膜物理》、 《纳米微结构物理》
等研究生课程教学大纲、讲义及资料汇编。
同时,他还在国内外重要的学术期刊上发表
学术论文280余篇、专著5本、译著1本;并
且,自l987年以来先后为各级领导与机构撰
写内部研究报告11篇。在闻院士公开发表的专
著中,以下三本是具有代表性的:(1)《固体
材料界面研究的物理基础》,1991年5月,科
学出版社;(2)《超硬膜的基本原理及其新进
展》,l990年,清华大学出版社;(3)《表面
沉积技术》,1989年,机械工业出版社。
科罕豕1专
Scientist BiograPhY
LS.Wen,R.F.Huang,D.C.Liu,X.T.Hu,X D.
Bai,C.Sun,J.Gong.Microscopic fundamentals of
electromagnetic functional metal/dielectric
nanocomposite muliflaycr films,Surface and Coatings
Technology,130(2000)100—109.
固体材料界面研究的物理基础,闻立时,
科学出版社,1991,北京。
Vapor deposited nanocomposite thin film,L.
S.Wen,invited paper at Symp.Advanced
Metallization in MicrOelectrOnics Of MRS l 990
Spring Meeting,Apr.1 6—20,1 990,San Francisco,
California,U.S.A.,MRS Symp.Proc.,vl 8 l,
Advanced Metallization in Microelectronics,eds.
A.Katz,S.P_Murarka and A.Appelbaum,p434.
L.S.Wen,X.Jinag.C.Y.Si.A transmission
electron microscopy study on Ti_N film deposited by
ion plating, 13th International Conference on
Metallurgical Coatings,April 1986,San Diego,USA;
J.Vac.Sci.Technology,A4(1986)6,2682.
L.S.Wen,S.J.Wu,C.Y.Si.Research on
interfacial micrOstructure of translucent
alumina—to—niobium seals,Chinese Journal of
Metal Science and Technology,2(1 986)6,
384.
L.S.Wen,P.P.Arsentyev.Viscosity of
iron melt with impurities of oxygen and
carbon, Bulletin of Soviet High Schools,
Ferrous Metallurgy,(1 96 1)7,5一l1(in Russian).
闻立时:黄荣芳:刘得成:胡新天:白雪
东:孙超:宫骏.纳米结构电磁工程微观原理
研究.真空,2000,4:卜9
L_S.Wen,R.F.Huang,D.C.Liu,X.T.
Hu,X D.Bai,C.Sun,J.Gong.Microscopic
fundamentals of electromagnetic functional metal/
dielectric nanocomposite multilayer films,Surface
nad Coatings Technology,2000:130:100—109
Min Zhang,Guoqiang Lin,Chuang Dong,
Lishi Wen.Amorphous TiO2 films with high
refractive index deposited by pulsed bias arc
ion plating.Surface and Coatings Technology,
2007,201(16一l7):7252—7258
张敏:林国强:董闯:闻立时.脉冲偏压
电弧离子镀室温沉积非晶TiO,薄膜.金属学报,
2007,43(5):509—5l4
沈辉:闻立时.简论发展中国太阳电池及
多晶硅产业.科技导报,2006,24(6):8—10
M.H.Guo,Q.M.Wang,J. Gong,C.Sun,
R.F.Huang,L.S.Wen.The preparation and
hot corrosion resistance of gradient
NiCoCrAlYSiB coatings. Surface and
Coatings Technology, 2006,Daoyun Zhu,
Changxi Zheng,Dihu Chen, Zhenhui He,
Lishi Wen,
M.H.Guo,Q.M.Wang,J.Gong,C.Sun,
L.S.Wen.Preparation and oxidation of a
gradient NiCoCrAlYSiB coating deposited by
a combined system of arc ion plating and
magnetron sputtering. Surface and Coatings
Technology,2006,201(3-4):1302—1308
M.H.Guo,Q.M.Wang,J.Gong,C.
Sun, R.F.Huang, L.S. Wen. Oxidation
and hot corrosion behavior of gradient
NiCoCrAlYSiB coatings deposited by a
combination of arc ion plating and magnetron
sPuttering technique s. Co rro sion
Science,2006,200(12一l3):3942—3949
Y.N.Wu,Q.M.Wang,C.Sun,J.
Gong,F.H.Wang,L.S.Wen.Evaluation of
arc ion plated NiCOCrAlYSiB coatings after
oxidation at 900-1 1 00。C. Surface and
Coatings Technology,2006,200(9):2857—
2863
Lin Guoqiang,Bai Xiao,Dong Chuang,
Wen Lishi.Substrate temperature calculation
for pulsed bias arc ion plating.Surface and
Coatings Technology, 2005, 194(2—30):
325——329
Q.M.Wang,H.Li,P.L.Ke,J.Gong,
C.Sun,L.S.Wen.Thermal shock cycling
behavior of NiCOCrAlYSiB coatings on Ni一
2O1 2年第9卷第2期(总第47期)
科芋豕1专
c entis t Qgraph
base superalloys: II. Microstructure
evolution.Materials Science and Engineering:
A,2005,406(1—2):350—357
H.T.Cao,Z.L.Pei,J.Gong,C.Sun,
R.F.Huang.L.S. Wen. Erratum to
“Transparent conductive A1 and Mn doped
ZnO thin films prepared by dc reactive
magnetron sputtering”[Surf.Coat.Techno1.
1 84 (2004)84—92]. Surface and Coatings
Technology,2004,187(2-3):410—410
Bing Wang, Chao Sun, Jun Gong,
Rongfang Huang,Lishi Wen. Oxidation
behaviour of the alloy IC——6 and protective
coatings.Corrosion Science,2004,46(3):
519—528
Z.J.Wang,L.S.Wen,X.R.Chang,
Y.S.Gu,Z.Z.Tian,and J.M.Xiao.
Oscillatory magnetic interlayer exchange
coupling in Fe—N/TiN multilayers, App1.
Phys.Lett.1 996,68(20):2887
八、闻立时获得的专利
闻立时:关侃:付立顺:周序科:俞兵:唐风军.
一
种耐蚀电接点及其制造工艺.发明专利:
87105085
闻立时:黄荣芳:陈岩:刘德义:程新红.一
种热丝化学气相沉积金刚石的设备.实用新
型:96225527
闻立时:黄荣芳:陈广超.一种大面积高速
度热丝化学气相沉积金刚石的方法及设备。
发明专利:96115163
闻立时:黄荣芳:于杰:陈广超・一种高速气
相生长金刚石的方法・发明专利:96115136
闻立时:卢春燕:孙超:王铁钢:黄荣芳:宫
骏:谭明辉:肖金泉:王冰:裴志亮.一种MgO薄
膜制备工艺.发明专利:01 133479
闻立时:卢春燕:孙超:肖金泉:宫骏:王
冰:王铁钢:杜吴:黄荣芳:刘艳梅.一种MgO功
能薄膜制备方法.发明专利:01133478
簿201 2年第9卷第2期(总第47期)
闻立时共获专利18项,这里仅介绍他
第一发明人的6项。
主要参考文献
杨亲民世界知名的复合材料专家、能沥
材料科学家、被业界尊称为“太阳能泰斗”
的中国科学院沈阳金属研究所研究员、博
生导师、中国工程院院士闻立时.功能材料
息.2007年Vl01.4 No.6:(02/08)
撰稿人
杨亲民,1941年12月出生,湖南湘潭人,
中共党员。1965年毕业于湖南大学金属物
专业(五年制),同年分配到重庆仪表材米
研究所工作至今。从事材料研究34年,产、I
发展研究与学、协会工作12年。完成20余项
究课题,多项获奖;发表学术论文约200篇,
主编文集6本
。
现任国家仪表功能材料工程主
术研究中心教授
、
中国仪表功能材料学会
问
、
《功能材料信息》期刊执行主编。
闻航
,
湖北武汉人,研究员,早年留学
地利
,
20O3年8月回国,在湖南远科航表面]
程有限公司任总工程师
。
闻立时院士的
子
。
发布者:admin,转转请注明出处:http://www.yc00.com/xitong/1712427219a2057621.html
评论列表(0条)