小尺寸Pixel隔离结构的生产工艺及隔离结构

小尺寸Pixel隔离结构的生产工艺及隔离结构


2024年5月11日发(作者:苹果4月份发布会)

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(21)申请号 CN2.0

(22)申请日 2021.12.09

(71)申请人 华虹半导体(无锡)有限公司

地址 214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号

(72)发明人 李佳龙 范晓

(74)专利代理机构 31211 上海浦一知识产权代理有限公司

代理人 刘昌荣

(51)

H01L27/146(20060101)

权利要求说明书 说明书 幅图

(10)申请公布号 CN 114267690 A

(43)申请公布日 2022.04.01

(54)发明名称

小尺寸Pixel隔离结构的生产工艺

及隔离结构

(57)摘要

本发明涉及一种小尺寸Pixel隔离

结构的生产工艺及隔离结构,其中小尺寸

Pixel隔离结构的生产工艺包括:在P型硅

衬底上进行N型外延层生长;在N型外延

层上沉积硬掩膜层;在硬掩膜层上进行光

刻工艺;进行硬掩膜层和N型外延层的刻

蚀,形成深沟槽结构;在深沟槽中进行第

一次P型外延层生长;在深沟槽侧壁热氧

化生长一层薄热氧化层;在深沟槽中填充

材料,对填充材料进行直接刻蚀,并在刻

蚀后去除深沟槽中剩余的填充材料;进行

第二次P型外延层生长,在深沟槽上部封

口;拔除硬掩膜层,进行研磨使第二次P

型外延层平坦化;在N型外延层及第二次

P型外延层上进行第三次P型外延层生

长,实现了小尺寸Pixel隔离结构的生产,

提升小尺寸像素的感光度,提高像素水

平。

法律状态

法律状态公告日

法律状态信息

2022-04-01

公开

实质审查的生效IPC(主分

2022-04-19

类):H01L27/146专利申请

号:2申请

日:20211209

法律状态

发明专利申请公布

实质审查的生效

权 利 要 求 说 明 书

【小尺寸Pixel隔离结构的生产工艺及隔离结构】的权利说明书内容是......请下载

后查看

说 明 书

【小尺寸Pixel隔离结构的生产工艺及隔离结构】的说明书内容是......请下载后查


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