2023年12月10日发(作者：适合所有智能手表的app)
光刻机光源的演变
光刻机光源是光刻技术中至关重要的组成部分，它的演变经历了多个阶段。
最早期使用的是自然光作为光刻机的光源，然而自然光的波长分布较宽，无法满足高精度、高分辨率的需求。
随后出现了汞灯光源，汞灯发出的紫外光具有较窄的波长范围，可实现较高的分辨率。然而，汞灯光源存在消耗气体、容易污染环境等问题。
1990年代，激光光源开始广泛应用于光刻机中。激光光源的优势在于其紧凑的体积、稳定性高、能量可调节等特点。常用的激光光源包括氩离子激光、氦氖激光、氟化氘激光等。
随着半导体制造工艺的发展，对光刻机的要求不断提升，光源也在不断演变。近年来，深紫外（DUV）激光光源成为光刻机的主流选择，其波长更短，能够实现更高的分辨率和更大的光刻容差。DUV激光光源主要有氟化氙激光和氟化氩激光。
由于光刻机对光源的要求越来越高，未来可能出现更先进、更高效的光源技术，进一步推动光刻技术的发展。
发布者：admin，转转请注明出处：http://www.yc00.com/num/1702140293a1179939.html
评论列表（0条）